09-11≪光学設計の基礎理論≫　　7月17日（金）

光学設計を実際に行なうに際して必要となる、基本的知識と設計手法、常套的な設計手段についての解説を行ないます。近年の多様な光学設計の際には、収差論、回折理論、照明理論、画像解析理論、電磁場解析理論、偏光理論などの多彩な理論へのアプローチが必要になってくる場合が少なからず存在いたします。こうしたアプローチの際の共通の基盤となり得る、そして尚且つ実用的な光学設計の基礎理論・手法についてのセミナーを行ないます。

講義項目

Ⅰ.　近軸理論
Ⅱ.　収差について
Ⅲ.　光学系の明るさについて　
　　１． Fナンバー
　　２． 周辺光量
Ⅳ.　設計上の結像性能評価　
　　１． 収差図
　　２． OTF
Ⅴ.　自動設計
Ⅵ.　製造公差について

日　時：　2009年7月17日(金)　午前10時30分より午後5時まで
会　場：　ちよだプラットフォームスクウエア　506号室
（千代田区神田錦町3-21　東西線竹橋下車5分）
受講料：　50,000円（税込・昼食代込）、
　一社二名のお申込なら・・・45,000円/名、一社三名以上なら・・・40,000円/名
　技術系篇6講座一括申込：260,000円（同一会社内で受講者の変更可）

参加方法： 光学設計講座お申込フォームからお申込ください。