12/3(水)~5(金) 国際画像機器展2014

株式会社オプティカルソリューションズは、「国際画像機器展2014」に出展します
(会期:2014年12月3日(水)~5日(金)会場:パシフィコ横浜)。
ご来場時にはぜひお立寄りくださいますよう、お願いいたします。
当社は、良質な光を作り出す透過率の高い拡散板《レンズ拡散版:LSD》を展示・紹介します。
光の配光制御と明るさ・色の不均一さを解消でき、画像処理用照明、ラインセンサ照明、複合機、
スキャナ、プロジェクタ、HUD等へ優れた実績を持っております。
試作用セットに近紫外域対応「試作キットUV円形拡散タイプ・楕円拡散タイプ」が新たに加わり、
UV光の拡散整形テストが可能になりました。
また、反射型偏光フィルム「ワイヤグリッド偏光フィルム:WGF」の展示も行います。
可視光から近赤外光まで高い偏光分離特性を持ち、耐湿熱性にも優れた偏光フィルムです。
プロジェクタ、PBS、HMD、HUDなどに使用実績があり、
赤外線センサ用フィルタや車載関連製品にもご検討いただけます。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。
<展示会情報>
・会名:国際画像機器展 2014
・会期:2014年12月3日(水)~5日(金)10:00~17:00
・会場:パシフィコ横浜
・ブースNo.:4
<主な展示物>
・レンズ拡散板:LSD
・ワイヤグリッド偏光フィルムWGF
・照明Simulator CAD
・LED用プラレンズ・COB用リフレクタ
※招待状を必要な方は、問合せフォームよりご連絡いただければお送りいたします。
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11/18(火)~20(木) Siフォトニクス・微小光学フェア2014(光とレーザーの科学技術フェア内)

株式会社オプティカルソリューションズは、光とレーザーの科学技術フェア「Siフォトニクス・微小光学フェア 2014」に出展します
(会期:2014年11月18日(火)~20日(木)会場:科学技術館(東京 北の丸公園内))。
ご来場時にはぜひお立寄りくださいますよう、お願いいたします。
当社は、良質な光を作り出す透過率の高い拡散板《レンズ拡散版:LSD》を展示・紹介します。
本製品は表面の微細レンズ構造により、高い透過率で照明の均一度を上げるとともに、
光の広がりを適正な範囲に変更するシートです。
LED照明の照度ムラや色ムラを改善させる便利な製品です。
また、ワイヤグリッド偏光フィルムの展示・紹介も行います。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。
<展示会情報>
・会名:Siフォトニクス・微小光学フェア 2014
・会期:2014年11月18日(火)~20日(木)10:00~17:00
(※開催日時にご注意ください(火曜日から木曜日まで))
・会場:科学技術館(東京 北の丸公園内))
・ブースNo.:A-3
<主な展示物>
・レンズ拡散板:LSD
・ワイヤグリッド偏光フィルムWGF
※招待状が必要な方は、問合せフォームよりご連絡いただければお送りいたします。
Si photonics

光学設計基礎・照明系設計基礎セミナー 受付開始のお知らせ

開催時期が未定となっておりました光学設計講座の日程が確定いたしましたので、本日より受付を開始いたしました。
ご興味のある方、これから設計業務に携わる方、現在設計業務に関わっている方はぜひご検討ください。

14-02 ≪光学設計基礎≫セミナー

光学設計を行うに辺り、最初に知っておく必要のある光学設計の基礎知識を一通り提供します。

講義項目
1)近軸理論の利用法
2)収差図の読み方
3)瞳
4)周辺光量
5)評価(SPOT DIAGRAMとMTF)
詳しくはこちらをご覧ください。
日 時:12/16(火) 13:00~17:00   受付:12時50分より
会 場:ちよだプラットフォームスクウエア(505会議室)
受講料: 18,000円(税込)/名
お申し込みはこちら
14-03≪照明系設計基礎≫セミナー

照明系を開発する場合に必要となる照明系設計の基礎知識を提供します。

講義項目
1)照度、輝度、強度などの単位について、その使い分け方等についても詳しく解説
2)光源について考える。(光源dataについても)
3)照明系設計の基本則。(照度の逆2乗則、輝度不変則、幾何光学的強度の法則、レンズメーカー結像式)
4)コンピュータを用いない照明系設計
詳しくはこちらをご覧ください。
日 時:2015年1/22(木) 13:00~17:00  受付 12:50 より
会 場:ちよだプラットフォームスクウエア(506会議室)
受講料: 18,000円(税込)/名
お申し込みはこちら

14-02≪光学設計基礎≫セミナー 2014年12月16日(火)開催

光学設計を行う上で、最初に知っておく必要のある光学設計の基礎知識を一通り提供します。
講義項目
  1. 近軸理論の利用法

    如何に光学系を複数のレンズなどで構成するかは、この近軸理論をもってして最初に行われなければなりません。光学設計に独特の近軸理論について学びます。

  2. 収差図の読み方

    光学設計とは、近軸理論で構成を考え、そして、一般的にはどうしても発生してしまう収差と言うものを除去していく作業です。そのためには収差についての情報を的確に読み取る能力が必要になります。ここでは収差の状態を簡潔に表現する収差図というものの読み方について解説します。

  3. 光学設計を始めると、意外とわかりにくい概念に、“瞳”があります。CCD素子等の撮像素子の性能を生かすためにも非常に重要なものでもある、光学系の“瞳”について考えます。

  4. 周辺光量

    結像光学系による画像の明るさの均一性について考えます。

  5. 評価(SPOT DIAGRAMとMTF)

    光学設計実務においては、レンズの性能の精密な評価手法としては非常に重要かつ、一般的なものであるSPOT DIAGRAMとMTFについて解説します。

日時
2014年12月16日(火) 13:00~17:00
会場
ちよだプラットフォームスクウェア(505会議室)
受講料
18,000円(税込)/名
講師
牛山 善太先生
(株)タイコ代表取締役、博士(工学)、元東海大学工学部光・画像工学科非常勤講師
定員
20名
申込方法
光学設計講座お申込画面からお申込いただくか、FAX(03-3865-3318)にてお申込ください。
※FAX用申込用紙はこちら→ 14-02FAX申込用紙

※新製品※レンズ拡散版:LSD 試作キット UV 円形拡散タイプ・UV 楕円拡散タイプ  販売開始

※※レンズ拡散版:LSD 試作キット UV 円形拡散タイプ・UV 楕円拡散タイプ 新発売※※
UV 光の拡散、照度ムラでお困りの方に最適。
UV 光対応(340nm 以上)のレンズ拡散板:LSD 試作キット 2 種類、円形・楕円形拡散が、期待にお応えしラインナップに追加されました。
UV透過アクリルをベースとしており、UVキュアリングの場面などでご使用いただけます。
製品詳細:
レンズ拡散板:LSD試作キット UV円形拡散タイプ(4枚セット)
拡散角度:10°、20°、30°、60°
サイズ:約90x90mm
厚さ:約0.76mm
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レンズ拡散板:LSD試作キット UV楕円拡散タイプ(3枚セット)
拡散角度:30×5°、60×1°、60×10°
サイズ:約90x90mm
厚さ:約0.76mm
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10/15(水)~17(金) LED Japan 2014(同時開催:インターオプト2014) 出展のお知らせ

株式会社オプティカルソリューションズは、All about Photonics 2014「LED Japan 2014」banner_ledに出展します
(会期:2014年10月15日(水)~17日(金)会場:パシフィコ横浜 展示ホールA,B、ブース番号:L-603)。
ご来場時にはぜひお立寄りくださいますよう、お願いいたします。
当社は、良質な光を作り出す透過率の高い拡散板《レンズ拡散版:LSD》を展示・紹介します。
本製品は表面の微細レンズ構造により、高い透過率で照明の均一度を上げるとともに、
光の広がりを適正な範囲に変更するシートです。
LED照明の照度ムラや色ムラを改善させる便利な製品です。
また、ワイヤグリッド偏光フィルムの展示・紹介も行います。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。
<展示会情報>
・会名:LED Japan 2014
・会期:2014年10月15日(水)~17日(金)10:00~17:00
・会場:パシフィコ横浜 展示ホールA,B
・ブースNo.:L-603
<主な展示物>
レンズ拡散板:LSD
ワイヤグリッド偏光フィルムWGF
LED用レンズ
LED用リフレクター
照明SimulatorCAD
※招待状が必要な方は、問合せフォームよりご連絡いただければお送りいたします。
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月刊『OPTRONICS』9月号 「特集 照明系と集光系:ノンイメージングオプティクス最新動向」掲載

月刊『OPTRONICS』9月号
「特集 照明系と集光系:ノンイメージングオプティクス最新動向」掲載
「月刊OPTRONICS 2014年9月号」(株式会社オプトロニクス社)
『特集 照明系と集光系:ノンイメージングオプティクス最新動向』に、
「光拡散シートの現状(pp.83-87)」と題した弊社の記事が掲載されました。
(執筆:株式会社オプティカルソリューションズ 林 孝亮)
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61.厚いホログラムについて

61.厚いホログラムについて
本連載第5回においてホログラムの原理について触れさせていただいた。そこではホログラム平面内に干渉縞が記録される所謂、薄いホログラムの範疇でお話をさせて頂いた。今回はその続きとして厚みのある、体積のあるホログラムについて考えさせていただきたい。前回は予備知識として平面波について触れさせていただいたが、今回からホログラム媒質内の干渉についての解説を始めさせていただく。
1.厚いホログラム内の干渉縞について
  さて、ここで体積(感光材による)のある厚いホログラムについて考える。ホログラフィーとしての基本構造は本連載5回と同じと考えて頂いて差し支えない。簡便のために物体波ならびに参照波がともに平面波であるとする。感光材内の波数ベクトルをそれぞれ、k1、k2とする。波数ベクトルとは、波面の進行方向を向く、大きさ2π/λのベクトルである。λは媒質中の光の波長である。
  さらに、二つの波面はz軸と平行にし、二つの波面の進行方向を2等分するように、z軸と直交するx軸をとる(図1)[1]。
光学設計ノーツ61.厚いホログラムについて全文を読む
株式会社タイコ 牛山善太

60.平面波の表現について

60.平面波の表現について
本連載第5回においてホログラムの原理について触れさせていただいた。そこではホログラム平面内に干渉縞が記録される所謂、薄いホログラムの範疇でお話をさせて頂いた。その続きとして(大分、時間が経ってしまったが)厚みのある、体積のあるホログラムについて考えさせていただきたいのであるが、今回はそのための予備知識として平面波について改めて触れさせていただく。本連載においてはたびたび登場し、非常に重要な“平面波“であるが、これまでそれ自体についての解説は行ってはいなかった。反省しつつここに記させていただきたい。
1.正弦波の表現
   
正弦波は最も基本的でシンプルな波動の一つである。この正弦波が、x方向に速度vで進行する場合は…
光学設計ノーツ60.平面波の表現について 全文を読む
株式会社タイコ 牛山善太

6/11(水)~6/13(金) 画像センシング展 2014 出展のお知らせ

株式会社オプティカルソリューションズは、画像処理に関する機器およびシステムの展示会「画像センシング展2014」に出展します(会期:2014年6月11日(水)から13日(金)会場:パシフィコ横浜 展示ホールD、ブース番号:A-2 )。
「画像センシング展」は今年29回目を迎えるとともに、世界に誇る日本の精密加工技術を支える測定をテーマにした「精密測定展(旧精密加工測定展)」との同時開催いたします。
当社は、良質な光を作り出す透過率の高い拡散板《レンズ拡散版:LSD》を展示・紹介します。本製品は表面の微細レンズ構造により、高い透過率で照明の均一度を上げるとともに、光の広がりを適正な範囲に変更するシートです。画像処理用照明に多くの実績があり、LED照明の照度ムラや色ムラを改善させる便利な製品です。
また、ワイヤグリッド偏光フィルムの展示・紹介も行いますので、ぜひ弊社ブースへお立ち寄りくださいますようご案内申し上げます。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。
<展示会情報>
・会名:画像センシング展2014
・会期: 2014年6月11日(水)~13日(金)10:00~17:00
・会場:パシフィコ横浜 展示ホール
・ブースNo.:A-2
<主な展示物>
レンズ拡散板:LSD
ワイヤグリッド偏光フィルムWGF
LED用レンズ
LED用リフレクター
照明SimulatorCAD
※招待状が必要な方は、問合せフォームよりご連絡いただければお送りさせていただきます。

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